한국전기연구원(원장 최규하)은 최근 전기화학 나노표면처리기술을 개발한데 이어 관련 전문기업인 ㈜덴티스에 기술을 이전했다고 26일 밝혔다.
치과용 임플란트는 대부분 티타늄이나 티타늄합금 금속재질로 사용되며, 매끈한 표면이 아닌 거친 표면으로 제조된다. 이는 빠른 골 유합을 유도해 치료시간을 줄이기 위한 것인데 기존에는 주로 샌드블라스팅과정을 거친 뒤 황산과 염산 등과 같은 강산을 이용한 에칭공정으로 임플란트 표면을 거칠게 만들어왔다. 다만 거칠기는 마이크로미터 이상 크기의 거칠기만 구현할 수 있는 한계를 갖고 있다.
전기연구원에서 개발한 전기화학 나노표면처리기술이 적용된 임플란트는 기존의 방식으로 제조되는 세라믹성 표면이 아닌 금속성 나노패턴표면이므로 부서질 염려가 없고 강산을 사용하지 않는 에칭방식인 탓에 표면에 불순물이 남지 않는 장점을 갖고 있다. 또 초기 장비와 가공비가 낮은 저비용공정이란 점 이외에도 대량생산과 입체가공에 전혀 문제가 없는 새로운 공정기술로 평가받고 있다.
김두헌 전기연구원 박사는 “임플란트시장은 고령화 사회에서 무하한 잠재적 시장수요를 갖고 있으나 현재 사용되는 기술은 스위스나 독일 등 선진국에 의존하고 있는 것이 현실”이라면서 “이번에 개발된 나노표면처리공정기술은 수입대체효과는 물론 세계임플란트시장을 선도할 수 있는 핵심기술이 될 것”으로 내다봤다.
이어 그는 “전기연구원은 개발된 기술을 치과용 임플란트뿐만 아니라 정형외과용 임플란트와 스텐트, 인공심장 등 생체 내 삽입되는 금속재료의 표면처리기술로 확대해 나갈 것”이라고 말했다.
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