에관공 관계자는 “이번 사업은 지난 8월에 추진한 LG전자(주) 중국사업장에 이어 두 번째로 해외사업장에 진출한 점과 6대 온실가스 이외에도 반도체 산업에서 사용되고 있는 NF3 가스를 포함해 산정한 배출량에 대해 검증을 추진한 점에 의의가 있다”고 말했다.
검증 결과 하이닉스 중국사업장의 온실가스는 약 40%정도가 공정배출원에서 발생하고 있는 것으로 나타났다. 이는 반도체 공정에서 온실가스를 포함한 다양한 가스(N2O, HFCs, PFCs, SF6 등)를 사용하는데 기인하고 있다.
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